- تعداد بازدید : ۸۳۲ بار
ماسک الاینر مدل ET-MA-V۱،دستگاهی بسیار دقیق در فرآیند فوتولیتوگرافی به منظور ساخت ریزتراشههای الکترونیکی و سیالاتی میباشد. این دستگاه قابلیت ایجاد الگوهای متفاوت با دقت ۲ میکرومتر را داراست که امکان ساخت ریزتراشههای بسیار دقیق با کاربردهای پژوهشی و صنعتی را فراهم میکند. سیستم تنظیم کننده تعبیه شده در این دستگاه با بهره گیری از پوزیشنرهای motorized بسیار دقیق برای میکروسکوپ و ویفر (در چهار جهت ) این امکان را به کاربران میدهد تا بتوانند تنظیمات مورد نظر را مطابق با نیازهای پژوهشی خود انجام دهند.
مکانیزم پیشرفته تابش نور استفاده شده در این محصول توانایی تاباندن نور فرابنفش به صورت موازی ، با شکست کم و به صورت کاملا یکنواخت را برروی سطح ویفر فراهم میکند تا بدین وسیله الگوهای مورد نظر با بهترین کیفیت و با رزولوشن بالا بر روی ماده حساس به نور فرابنفش ایجاد شوند. استفاده از لامپ با توان مناسب و طراحی دقیق سیستم موازی سازی پرتو، این قابلیت را به دستگاه میدهد تا بتواند طرح هایی بسیار دقیق با عمق تا ۱۰۰ میکرومتر ایجاد گردد.
با بهره گیری از میکروسکوپ دیجیتال بسیار دقیق و صفحه نمایشگر در سیستم تصویربرداری، کاربر به راحتی با استفاده از joystick و کیبورد، با تسلط کافی اقدام به تطبیق ویفر و ماسک میکند. همچنین کاربر می تواند با استفاده از این سیستم همزمان با انجام آزمایش روی تراشه، جزییات جریان سیال داخل آن را به راحتی بر روی صفحه نمایشگر مشاهده و از آن عکس و فیلم تهیه کند. از دیگر ویژگیهای دستگاه میتوان به امکان ایجاد فاصله دقیق بین مسک و ویفر(در مد پراکسیمیتی) و نرم افزار با کاربری ساده اشاره کرد. به علاوه، طراحی انعطافپذیر این بخش، امکان سفارش و نصب انواع میکروسکوپ برحسب نیاز کاربر برای استفاده از دستگاه ماسک الاینر در کاربردهای خاص را ایجاد میکند که میتوان آن را از ویژگیهای ممتاز این محصول برشمرد.
مشخصات اطلاعات شرکت فروشنده این محصول
ماسک الاینر مدل ET-MA-V۱،دستگاهی بسیار دقیق در فرآیند فوتولیتوگرافی به منظور ساخت ریزتراشههای الکترونیکی و سیالاتی میباشد. این دستگاه قابلیت ایجاد الگوهای متفاوت با دقت ۲ میکرومتر را داراست که امکان ساخت ریزتراشههای بسیار دقیق با کاربردهای پژوهشی و صنعتی را فراهم میکند. سیستم تنظیم کننده تعبیه شده در این دستگاه با بهره گیری از پوزیشنرهای motorized بسیار دقیق برای میکروسکوپ و ویفر (در چهار جهت ) این امکان را به کاربران میدهد تا بتوانند تنظیمات مورد نظر را مطابق با نیازهای پژوهشی خود انجام دهند.
مکانیزم پیشرفته تابش نور استفاده شده در این محصول توانایی تاباندن نور فرابنفش به صورت موازی ، با شکست کم و به صورت کاملا یکنواخت را برروی سطح ویفر فراهم میکند تا بدین وسیله الگوهای مورد نظر با بهترین کیفیت و با رزولوشن بالا بر روی ماده حساس به نور فرابنفش ایجاد شوند. استفاده از لامپ با توان مناسب و طراحی دقیق سیستم موازی سازی پرتو، این قابلیت را به دستگاه میدهد تا بتواند طرح هایی بسیار دقیق با عمق تا ۱۰۰ میکرومتر ایجاد گردد.
با بهره گیری از میکروسکوپ دیجیتال بسیار دقیق و صفحه نمایشگر در سیستم تصویربرداری، کاربر به راحتی با استفاده از joystick و کیبورد، با تسلط کافی اقدام به تطبیق ویفر و ماسک میکند. همچنین کاربر می تواند با استفاده از این سیستم همزمان با انجام آزمایش روی تراشه، جزییات جریان سیال داخل آن را به راحتی بر روی صفحه نمایشگر مشاهده و از آن عکس و فیلم تهیه کند. از دیگر ویژگیهای دستگاه میتوان به امکان ایجاد فاصله دقیق بین مسک و ویفر(در مد پراکسیمیتی) و نرم افزار با کاربری ساده اشاره کرد. به علاوه، طراحی انعطافپذیر این بخش، امکان سفارش و نصب انواع میکروسکوپ برحسب نیاز کاربر برای استفاده از دستگاه ماسک الاینر در کاربردهای خاص را ایجاد میکند که میتوان آن را از ویژگیهای ممتاز این محصول برشمرد.
مشخصات اطلاعات شرکت فروشنده این محصول
